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Kompakte 2-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für nichtmetallische Dünnfilme

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  • Adresse : No. 5 Nanshan Road, Huli District, Xiamen City, Fujian Province, China
Kompakte 2-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für nichtmetallische Dünnfilme

Kompakte 2-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für nichtmetallische Dünnfilme

  • :

    VTC-2RF
  • MOQ :

    1
  • :

    20 days
  • Compliance:

    CE Certified
  • Warranty:

    1 year
  • Delivery Time:

  • E-Mail :

    [email protected]

Kompakte 2-Zoll-HF-Plasma-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für nichtmetallische Dünnfilme


vtc-2rf ist ein kompaktes 2 "-Einkopf-HF-Plasma-Magnetron-Sputtersystem, das nichtmetallische, hauptsächlich oxidische Dünnfilme beschichtet. Es integriert alle Komponenten in einem einstöckigen Standgehäuse, einschließlich HF-Stromquelle, Quarzvakuumkammer, Vakuumpumpe, Umwälzwasser Chiller und Filmdickenmonitor usw. Es ist ein ausgezeichnetes und kostengünstiges Beschichtungsgerät zum Beschichten von Dünnfilmen aus nicht leitendem Material in F & E-Anlagen.

Spezifikationen

Eingangsleistung

  • 220 Vac, 50/60 Hz, einphasig
  • 800 W (einschließlich Pumpe)
  • Wenn die Spannung 110 VAC beträgt, wird ein 1000-W-Transformator benötigt. Klicken Sie zum Bestellen auf das linke Bild

Quellleistung

  • ein 13,5 mhz, 300 w rf generator mit automatischer anpassung Funktion ist im Schrank eingebaut und an 2 "Sputterkopf angeschlossen.
  • Optional: Für die Beschichtung von metallischem Material ist eine Gleichstrom-Zerstäubungsquelle erhältlich

Magnetron-Sputterkopf



  • Ein 2 "Magnetron-Sputterkopf mit Wasserkühlung wird mitgeliefert und über eine Schnellklemme in die Quarzkammer eingeführt
  • Ein Verschluss befindet sich am Flansch (manuell betätigt)
  • Zur Kühlung von Magnetron-Sputterköpfen wird ein digital gesteuerter Umlaufwasserkühler mit 16 l / min benötigt
  • 1 "Sputterkopf ist austauschbar und optional gegen Aufpreis erhältlich
  • Das 148-cm-HF-Kabel ist gegen Aufpreis austauschbar

Sputtertarget

  • Zielgrößenanforderung: 2 "Durchmesser x 1/4" Dicke max
  • ein sio2 target ist für den demotest enthalten.
  • Al2O3 Keramik Target Beschichtungsmethode empfehlen
  • Optionale 2 "Sputtertargets (mit Trägerplatte) sind auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich.

Vakuumkammer

  • Vakuumkammer: 160 mm Durchmesser x 150 mm Innendurchmesser x 250 mm Höhe. aus hochreinem Quarz
  • Dichtflansch: Ø 165 mm aus Aluminium mit Hochtemperatur-Silikon-O-Ring
  • Die Abdeckung aus Edelstahlgewebe schützt die Kammer zu 100% vor HF-Strahlung
  • Vakuumniveau: 1,0e-2 Torr mit integrierter zweistufiger mechanischer Pumpe und 1,0e-5 Torr mit optionaler Turbopumpe

Beispiel halter

  • Der Probenhalter ist drehbar und beheizbar und besteht aus einer Keramikheizung mit Edelstahlabdeckung
  • Größe des Probenhalters: Ø 50 mm für 2 "Wafer max
  • drehzahl ist einstellbar: 1 - 10 rpm für gleichmäßige beschichtung
  • die haltetemperatur ist über einen digitalen temperaturregler von rt bis max. 500 ° c mit einer genauigkeit von +/- 1,0 ° c einstellbar.
  • 800-1000 ° C Heizprobenhalter sind auf Anfrage auf Anfrage erhältlich.
  • Optional ist ein Vibrations-Probenhalter für die Power-DVD-Beschichtung erhältlich. (Bild 3 unten)

Vakuumpumpstation


  • Der Vakuumanschluss kf25 ist für den Anschluss an eine Vakuumpumpe eingebaut.
  • eine vakuumpumpe mit kf25 adapter wird benötigt, ist aber nicht im lieferumfang enthalten .. bitte klicken sie auf das bild, um es separat zu bestellen.
  • Vakuumniveau: 1,0e-2 Torr mit zweistufiger mechanischer Pumpe und 1,0e-5 Torr mit der Turbopumpe

wahlweise

  • Optional ist ein Präzisions-Quarz-Dickensensor erhältlich, der in die Kammer eingebaut werden kann, um die Schichtdicke mit einer Genauigkeit von 0,10 Å zu überwachen. Der Laptop wird für die Bildschirmstärke benötigt

Gesamtabmessungen

Nettogewicht

  • 70 kg

Garantie & amp; Beachtung

  • Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslanger Unterstützung
  • ce zertifiziert
  • Eine nrtl- oder csa-Zertifizierung ist auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich

Anwendungshinweise

  • Dieser kompakte 2-Zoll-Hochfrequenz-Magnetron-Sputter-Coater wurde für die Beschichtung von Oxid-Dünnfilmen auf Oxid-Einkristallsubstraten entwickelt, für die normalerweise kein Hochvakuum erforderlich ist
  • Bitte verwenden Sie & gt; 5n Reinstgas für das Plasmasputtern
  • Reinigen Sie die Oberfläche des Untergrunds vor dem Beschichten, um eine optimale Haftung des Untergrunds zu erzielen:
    • Ultraschallreinigung mit den folgenden aufeinanderfolgenden Bädern - (1) Aceton, (2) Isopropylalkohol - zum Entfernen von Öl und Fett. Föhnen Sie das Substrat mit n2 und backen Sie es dann im Vakuum heiß, um die absorbierte Feuchtigkeit zu entfernen
    • Eine Plasma-Reinigung kann zum Aufrauen der Oberfläche, zur Aktivierung chemischer Oberflächenbindungen oder zur zusätzlichen Entfernung von Verunreinigungen erforderlich sein
    • Eine dünne Pufferschicht (~ 5 nm), wie z. B. cr, ti, mo, ta, könnte aufgebracht werden, um die Haftung von Metallen und Legierungen zu verbessern
  • Für die beste Leistung müssen die nicht leitenden Targets mit einer Kupfer-Trägerplatte installiert werden. Weitere Informationen zum Target-Bonding finden Sie im folgenden Anleitungsvideo (Nr. 3)
  • tmax setzt die Lackierer ein, die zno erfolgreich auf al 2 O 3 Substrat bei 500 ° C (xrd Profil in Bild 5)
  • Verwenden Sie kein Leitungswasser im Wasserkühler. Verwenden Sie Wasser, destilliertes Wasser oder Korrosionsschutzmittel als Farbmittel.





Magnetron Sputtering Coating









Paket:

1 standard exportiert paket: interne kollisionsschutz, externe export holzkiste verpackung.

2 Versand per Express, per Flugzeug, per Schiff nach Kundenwunsch, um den am besten geeigneten Weg zu finden.

3 verantwortlich für den schaden während des versandprozesses, wird das beschädigte teil für sie kostenlos ändern.

Lieferzeit : 15-20 tage nach der bestätigung der bestellung, detail lieferdatum sollte bestimmt werden nach

Produktionszeit und Bestellmenge.